「LVMH Prize」一次審査で26人のクリエイターを選出、山縣良和が日本人初のノミネート

 LVMH(モエ ヘネシー・ルイ ヴィトン)グループが主催する、若手デザイナーの育成・支援を目的としたファッションコンテスト「LVMH Young Fashion Designers Prize」のエントリーが2月8日に締め切られ、約1000人の応募者の中から 26人のクリエイターが選出された。5月に行われる審査でファイナリスト8人が決定する。


今回選出されたクリエイターたちの顔ぶれ

 一次審査では26人を選出。出身国は約10カ国で、中国、米国、英国出身者が最も多かった。日本からは、「リトゥンアフターワーズ(writtenafterwards)」のデザイナー山縣良和が初めて選出された。26人のうち、ウィメンズデザイナーは15人、メンズ&ウィメンズデザイナーが5人、メンズデザイナーは6人。 「ジャックムス(Jacquemus)」「マルケス アルメイダ(Marques Almeida)」「クレイグ・グリーン(Craig Green)」は第1回に続き2度目の参加となった。

 今回選出された26人は5月4日と5日に45人の審査員と対面し、8人に絞られる。一方、今回はグランプリとは別に、「グラデュエイト プライズ」としてファッションスクールの卒業生を3人選出するが、こちらは5月3日まで応募受付中となっている。

第2回「LVMHプライズ」のプレファイナリスト

Agi and Sam(拠点:ロンドン)、Andrea Jiapei Li(ニューヨーク)、Anton Belinskiy(キエフ)、Arthur Arbesser(ミラノ)、Astrid Andersen(コペンハーゲン)、Baja East(ニューヨーク)、Coperni(パリ)、Craig Green(ロンドン)、Devon Halfnight LeFlufy(アントワープ)、Faustine Steinmetz(ロンドン)、Huishan Zhang(ロンドン)、Jacquemus(パリ)、Jourden(香港)、Koché(パリ)、Marques Almeida(ロンドン)、Nabil Nayal(ロンドン)、Nasir Mazhar(ロンドン)、Off White c/o Virgil Abloh(ミラノ)、Orley(ニューヨーク)、Ryan Lo(ロンドン)、Ryan Roche(ニューヨーク)、Sankuanz(廈門)、Vetements(パリ)、WrittenAfterwards (東京)、Xiao Li(ロンドン)、Ximon Lee(ニューヨーク)

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