「LVMH Prize」一次審査で26人のクリエイターを選出、山縣良和が日本人初のノミネート

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Anaïs Lerévérend

掲載日
2015/02/23

　LVMH（モエ ヘネシー・ルイ ヴィトン）グループが主催する、若手デザイナーの育成・支援を目的としたファッションコンテスト「LVMH Young Fashion Designers Prize」のエントリーが2月8日に締め切られ、約1000人の応募者の中から 26人のクリエイターが選出された。5月に行われる審査でファイナリスト8人が決定する。

　一次審査では26人を選出。出身国は約10カ国で、中国、米国、英国出身者が最も多かった。日本からは、「リトゥンアフターワーズ（writtenafterwards）」のデザイナー山縣良和が初めて選出された。26人のうち、ウィメンズデザイナーは15人、メンズ＆ウィメンズデザイナーが5人、メンズデザイナーは6人。 「ジャックムス（Jacquemus）」「マルケス アルメイダ（Marques Almeida）」「クレイグ・グリーン（Craig Green）」は第1回に続き2度目の参加となった。

　今回選出された26人は5月4日と5日に45人の審査員と対面し、8人に絞られる。一方、今回はグランプリとは別に、「グラデュエイト プライズ」としてファッションスクールの卒業生を3人選出するが、こちらは5月3日まで応募受付中となっている。

第2回「LVMHプライズ」のプレファイナリスト：

Agi and Sam（拠点：ロンドン）、Andrea Jiapei Li（ニューヨーク）、Anton Belinskiy（キエフ）、Arthur Arbesser（ミラノ）、Astrid Andersen（コペンハーゲン）、Baja East（ニューヨーク）、Coperni（パリ）、Craig Green（ロンドン）、Devon Halfnight LeFlufy（アントワープ）、Faustine Steinmetz（ロンドン）、Huishan Zhang（ロンドン）、Jacquemus（パリ）、Jourden（香港）、Koché（パリ）、Marques Almeida（ロンドン）、Nabil Nayal（ロンドン）、Nasir Mazhar（ロンドン）、Off White c/o Virgil Abloh（ミラノ）、Orley（ニューヨーク）、Ryan Lo（ロンドン）、Ryan Roche（ニューヨーク）、Sankuanz（廈門）、Vetements（パリ）、WrittenAfterwards （東京）、Xiao Li（ロンドン）、Ximon Lee（ニューヨーク）